EUV near normal incidence collector development at SAGEM

Renaud Mercier-Ythier (1) , Xavier Bozec (1) , Roland Geyl (1) , André Rinchet (1) , Christophe Hecquet (2) , Marie-Françoise Ravet-Krill (2) , Franck Delmotte (2) , Benoit Sassolas (3) , Raffaele Flamino (3) , Jean-Marie Mackowski (3) , Christophe Michel (3) , Jean-Luc Montorio (3) , Nazario Morgado (3) , Laurent Pinard (3) , Élodie Romeo (3)

1 SAGEM Défense Sécurité [Massy]
2 Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique / Scop
3 LMA - Laboratoire des matériaux avancés

Domains: Optics [physics.optics]

Renaud Mercier-Ythier, Xavier Bozec, Roland Geyl, André Rinchet, Christophe Hecquet, et al.. EUV near normal incidence collector development at SAGEM. Emerging lithographic technologies XII, Feb 2008, San José, United States. pp.692135, ⟨10.1117/12.787620⟩. ⟨hal-00814125⟩