Second-harmonic generation in reactively-ion etched N'-ethyl,N-ethanol-4-(nitrophenylazo)phenylamino polymer waveguides at telecommunication wavelengths - Institut d'Optique Graduate School Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 1999

Second-harmonic generation in reactively-ion etched N'-ethyl,N-ethanol-4-(nitrophenylazo)phenylamino polymer waveguides at telecommunication wavelengths

Résumé

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Dates et versions

hal-00668303 , version 1 (09-02-2012)

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Citer

Wook-Rae Cho, Vincent Ricci, Tomas Pliska, Michael Canva. Second-harmonic generation in reactively-ion etched N'-ethyl,N-ethanol-4-(nitrophenylazo)phenylamino polymer waveguides at telecommunication wavelengths. Journal of Applied Physics, 1999, 86 (6), pp.2941-2944. ⟨10.1063/1.371152⟩. ⟨hal-00668303⟩
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